Comportement électrochimique du cuivre nu et recouvert d'un film d'oxyde préforme en milieu sulfate chlorure

Abstract

Deux approches ont été adoptées dans ce travail concernant l’étude du comportement électrochimique du cuivre en milieu Na2SO4 0,1 M en présence de faibles quantités en chlorure. La première consistait à laisser croitre le film d’oxyde naturellement à la surface du métal, dans le milieu aqueux, pour se rapprocher des conditions de corrosion couramment rencontrées. Le rôle de plusieurs facteurs dont la vitesse de rotation, le temps d’immersion et la concentration en chlorure a été mis en évidence. La seconde, était de provoquer la formation d’une couche d’oxyde par polarisation anodique en appliquant pendant une heure une densité de courant égale à 1 mA/cm2. Des mesures d’épaisseur des couches d’oxydes obtenues ont été déterminées par application de différentes méthodes de calcul. A partir de l’exploitation des mesures d’impédance électrochimique, un comportement CPE et non pas purement capacitif a été observé dans le domaine haute fréquence pour les deux cas étudiés. Il semblerait que dans le cas de films minces, l’origine du CPE est attribuée à une distribution radiale 2-D d’une propriété de l’oxyde alors qu’elle est du type 3-D dans le cas de films plus épais. Par ailleurs, l’adjonction dans le milieu d’un tensioactif possédant un comportement viscoélastique caractéristique des composés réducteurs de frottement hydrodynamique a révèlé une protection significative du métal vis-à-vis de la corrosion. Les analyses par spectroscopie d’impédance électrochimique ont montré que la protection du métal se fait dans le temps ce qui laisse penser à la présence de phénomène d’adsorption assez lent sur la surface de l’électrode.