Electrodéposition des couches minces d’oxydes de cuivre sur un substrat d’aluminium dans différents milieux : Simulation de la vitesse de dépôt

Abstract

Cetravail a pour butd’élaborer des dépôts du cuivre et de ses oxydes sur un substrat d’aluminium dans différents milieux par la méthode d’électrodéposition. Les électrolytes aqueux neutres à base de sels d’acétate de cuivre montrenten générale de meilleures performances électrochimiques. Les électrolytes non aqueux ont été égalementtestés pour la synthèse de ces dépôts et plus particulièrement, les LI à base de la pyrrolidine et un acide et les solvants « DeepEutectic » à base de N-méthylacétamide et de sels de Lithium. Ces derniers semblent prometteurs comme électrolytes pour des applications en électrochimie et ils donnent de bons résultats.De nombreuses expériences ont été effectuéeset à différents paramètres pour parvenir à déterminer le coefficient de diffusion par le biais de la loi de Levich (électrode à disque tournant) et faire la comparaison à ceux déterminés par la loi de Cottrell et de Sand (électrode plane). Les vitesses de dépôt ont été également calculéesavec application d’un modèle approprié à ces vitesses. Les résultats calculés par la loi de faraday et le modèle sont en bon accord The aim of this work was to elaborate deposits copper and its oxide on aluminum substrate with different electrolyte using the electrodeposition method. The neutral aqueous electrolyte based on copper acetate salt generally shows the best electrochemical performances. The non-aqueous electrolytes were also tested for the synthesis of these deposits in particular, the LI based on pyrrolidine with acid and the solvents "Deep Eutectic" based on N-methylacetamidewith lithium salts. They look promising as electrolyte for applications in electrochemistry and they give good results. Many experiments have been carried out and at different parameters to arrive at determining the diffusion coefficient by means of Levich's law(rotating disk electrode) and making the comparison with those determined by Cottrell's and Sand's law (planar electrode). The deposition rates were also calculated with the application of an appropriate model to these rates. The results calculated by Faraday's law and the model are in good agreement.