Abstract:
Le travail présenté dans ce mémoire porte sur le dépôt électrochimique de couches minces
d’oxyde cuivreux dopées et étude de leurs propriétés photo- électrochimiques déposé par la
technique électrodéposition.
Des couches minces de Cu2O dopées de type p et de type n ont été soigneusement préparées à
partir d'une solution électrolytique contenant du sulfate de cuivre et de l'acide lactique.
Différents dopants ont été utilisés pour cette étude tels que : le chlorure pour le dopage des
films minces de type n et le potassium (K), le baryum (Ba) et le sodium (Na) pour le dopage
du type p. Les dépôts obtenus ont été caractérisés par photo-courant, spectroscopie
d’impédances électrochimiques et Mott-Schottky.
